Technologie CVD povlakování (chemická depozice vrstev) je z technologií povlakování historicky nejstarší a výrazným způsobem se od předchozích dvou
liší. Veškerý zdrojový materiál pro růst vrstvy je do komory přiváděn
v plynné fázi a po vyhřátí atmosféry a substrátů na teplotu cca 1000
oC
dochází k iniciaci chemické reakce a růstu vrstvy.