Technologie CVD povlakování

Technologie CVD povlakování (chemická depozice vrstev) je z technologií povlakování historicky nejstarší a výrazným způsobem se od předchozích dvou liší. Veškerý zdrojový materiál pro růst vrstvy je do komory přiváděn v plynné fázi a po vyhřátí atmosféry a substrátů na teplotu cca 1000oC dochází k iniciaci chemické reakce a růstu vrstvy.

CVD povlaky

- Výhodou CVD oproti PVD technologiím je absence vnitřních pnutí ve vrstvě a schopnost povlakovat i složité geometrie včetně vnitřních povrchů.
- Nevýhodou CVD technologií vysoká teplota procesu povlakování a menší variabilita povlaků.